Applicazione del magnetron sputtering

Applicazione di sputtering del magnetron

Lo sputtering del magnetron è il metodo più efficiente per la deposizione a bassa temperatura nella tecnologia PVD. Durante lo sputtering del magnetron, gli elettroni vengono assorbiti dalla copertura del campo scuro o dall'anodo appositamente attaccato e la temperatura del substrato ottenuto è inferiore a quella dello sputtering tradizionale. Altri materiali sensibili alla temperatura vengono depositati come substrati. Nel 1998, Teel Coating Ltd. ha proposto la tecnologia di depositare rivestimenti TiN e TiCN di alta qualità mediante spruzzatura di magnetron a bassa temperatura e la temperatura del substrato potrebbe essere abbassata a meno di 70 ° C, ampliando così la possibile gamma di applicazioni di rivestimenti simili. Negli ultimi anni, la Loughborough University nel Regno Unito ha ridotto con successo la temperatura del substrato durante lo sputtering del magnetron da 350 a 500 °C a circa 150 °C a temperatura ambiente e ha applicato con successo rivestimenti TiN e CrN alle superfici degli stampi dei denti artificiali e al rame La superficie della testa di contatto di saldatura ne aumenta la durata di servizio da 5 a 10 volte. Si può notare che la ricerca sui metodi e sui processi di deposizione a bassa temperatura è molto significativa e promettente.