Che cos'è la deposizione di film sottile per evaporazione termica?

Uno dei metodi comuni di deposizione di vapore fisico (PVD) è l'evaporazione termica. Questa è una forma di deposizione di film sottile, che è una tecnologia a vuoto per applicare i rivestimenti Fornitori di macchine per rivestimento per aspirapolvere evaporazione di materiali puri alla superficie di vari oggetti. I rivestimenti, anche chiamati film, sono generalmente nella gamma di spessore di angstrom ai micron e possono essere un singolo materiale o possono essere più materiali in una struttura a strati.
I materiali da applicare con tecniche di evaporazione termica possono essere elementi atomici puri, inclusi metalli e non metalli, o possono essere molecole come ossidi e nitruri. L'oggetto da rivestire è indicato come substrato e può essere una grande varietà di cose come: wafer a semiconduttore, celle solari, componenti ottici o molte altre possibilità.

L'evaporazione termica prevede il riscaldamento di un materiale solido all'interno di un'alta camera del vuoto, portandolo a una temperatura che produce una certa pressione di vapore. All'interno del vuoto, anche una pressione di vapore relativamente bassa è sufficiente per sollevare una nuvola di vapore all'interno della camera. Questo materiale evaporato ora costituisce un flusso di vapore, che attraversa la camera e colpisce il substrato, attaccandosi ad esso come un rivestimento o un film.
Poiché, nei casi di processi di evaporazione termica, il materiale viene riscaldato al suo punto di fusione ed è liquido, di solito si trova sul fondo della camera, spesso in una sorta di crogiolo verticale. Il vapore si alza quindi al di sopra di questa sorgente inferiore e i substrati vengono tenuti invertiti in apparecchi appropriati nella parte superiore della camera. Le superfici destinate a essere rivestite sono quindi rivolte verso il materiale di origine riscaldata per ricevere il rivestimento.
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