L'alimentazione CC raffreddata ad acqua con struttura compatta può ottenere la migliore qualità di rivestimento, in modo da poter sostituire l'alimentazione a impulsi nel processo di sputtering del magnetron.
Caratteristiche:
• Il sistema accorcia notevolmente il tempo di reazione e l'energia dell'arco residuo si è ridotta a una velocità minima
• Anche nell'elevato tasso di arco del processo, può garantire che il film sia sottile e omogeneo.
• Energia residua di arco estremamente basso, recupero veloce
• Applicazioni di sputtering DC avanzate
• Per ottenere un'output ad alta potenza in una struttura compatta
• Alimentazione raffreddato ad acqua
Beneficio del cliente:
• Migliora significativamente l'efficienza della produzione
• Qualità del film ad alte prestazioni
• Anche l'alimentazione di 40 kW e l'integrazione del sistema
• Alta stabilità del sistema e costi di bassa manutenzione

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