Macchina per rivestimento per aspirapolvere evaporazione e principio fisico- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Macchina per rivestimento per aspirapolvere evaporazione e principio fisico

L'evaporazione macchina per rivestimento a vuoto è composto principalmente da una camera di rivestimento sotto vuoto e un sistema di pompaggio a vuoto. Esistono fonti di evaporazione (cioè riscaldatori di evaporazione), substrati e supporti per substrati, aste per elettrodi, alimentatori, crogioli, riscaldatori di substrato, sistemi di scarico, ecc. Nella camera del vuoto.

Il materiale di rivestimento è inserito nella fonte di evaporazione nella camera del vuoto. In condizioni di vuoto elevate, la fonte di evaporazione viene riscaldata per evaporarla. Quando il percorso libero medio delle molecole di vapore è maggiore della dimensione lineare della camera del vuoto, gli atomi e le molecole del vapore cinematografico evaporanno dalla fonte di evaporazione. Dopo la fuga della superficie della sorgente, viene raramente sconfitta e ostacolata da altre molecole o atomi e può raggiungere direttamente la superficie del substrato per essere placcata. A causa della bassa temperatura del substrato, le particelle di vapore del materiale del film si condensano per formare un film.

Al fine di migliorare l'adesione tra le molecole evaporate e il substrato, il substrato può essere attivato mediante appropriato riscaldamento o pulizia ionica. Il processo fisico del rivestimento di evaporazione del vuoto dall'evaporazione dei materiali, dal trasporto alla deposizione e dalla formazione del film è il seguente:

1. Usa vari metodi per convertire altre forme di energia in energia termica, riscaldare il materiale del film per evaporare o sublime e diventare particelle gassose (atomi, molecole o gruppi atomici) con una certa energia (0,1 ~ 0,3ev):

2. Le particelle gassose lasciano la superficie del materiale di membrana e vengono trasportate sulla superficie del substrato in linea retta con una notevole velocità di movimento senza collisione;

3. le particelle gassose che raggiungono la superficie del condendio del substrato e nucleate e crescono in un film solido;

4. Gli atomi che compongono il film sono riorganizzati e disposti o legati chimicamente.