Macchina per rivestimento a vuoto sputtering magnetron

Macchina per rivestimento a vuoto sputtering magnetron

Un sistema di rivestimento a vuoto sputtering magnetron utilizza ioni ad alta energia per depositare un sottile strato di materiale su un substrato. Il processo è rapido ed economico e produce un rivestimento di alta purezza. Gli ioni ad alta energia vengono rilasciati da un materiale di origine e si scontrano con un gas inerte, come l'argon. Questi ioni producono un plasma e gli atomi del materiale di origine vengono espulsi.

La macchina per rivestimento a vuoto magnetron è comunemente utilizzata nella produzione di gioielli. I suoi progetti rotanti e stazionari possono essere facilmente regolati per soddisfare un'ampia varietà di requisiti di rivestimento. Questa macchina è adatta per il rivestimento in metallo o substrato non metallico. Può anche essere usato per ricoprire vetro in plastica, ceramica e cristallina. Le sue caratteristiche di fascia alta includono una buona uniformità e tassi di deposizione veloci.

Un sistema di rivestimento a vuoto sputtering magnetron è uno strumento potente e versatile per la produzione ad alto volume. A seconda delle esigenze e dell'applicazione, questa tecnica può creare film sottili con una vasta gamma di proprietà desiderate. Diversi sistemi di alimentazione, materiali e gas possono essere utilizzati per ottimizzare il processo. Prima dell'inizio del processo, il substrato viene montato nel titolare. Il supporto passa quindi attraverso una camera di blocco del carico per evitare che si muova.

Questo sistema di rivestimento a vuoto è un metodo a basso costo che produce rivestimenti di alta qualità con un alto tasso di passaggio. È ideale per la produzione di aviazione e elettronica di fascia alta. Può essere utilizzato anche per plant in lega e film in metallo composito. Questo è un modo economico ed efficace per ricoprire molti tipi di materiali.

Un sistema di rivestimento a vuoto sputtering magnetron utilizza una fonte di sputtering che sfrutta il confinamento elettronico. I magneti intrappolano gli elettroni sulla superficie del bersaglio, con conseguente densità plasmatica più elevata e velocità di deposizione più elevate. A differenza dei metodi di sputtering convenzionali, questa tecnica è sicura e non causa danni all'oggetto di rivestimento.

Il gas sputtering utilizzato nel processo è una considerazione importante. Il tipo di gas da utilizzare dipende dal peso atomico del substrato. Ad esempio, i materiali più leggeri beneficiano dell'uso di neon o xeno. Se la camera contiene ossigeno, il processo sarà reattivo.

Il processo di sputtering prevede l'esposizione del materiale target a gas reattivi. Questi gas reagiscono con il materiale target e creano un composto molecolare. Il materiale viene quindi depositato come un rivestimento a film sottile. Ad esempio, quando un bersaglio di silicio viene reattivamente sputato con ossigeno o azoto, produce ossido di silicio o nitruro di silicio. Questo metodo viene spesso utilizzato per ricoprire più materiali contemporaneamente.

Macchina per rivestimento sputtering magnetron

I rivestimenti a ioni multi-arco e sputtering possono essere depositati in una vasta gamma di colori. Lo slip di colori può essere ulteriormente migliorato introducendo gas reattivi nella camera durante il processo di deposizione. I gas reattivi ampiamente usati per i rivestimenti decorativi sono azoto, ossigeno, argon o acetilene. I rivestimenti decorativi sono prodotti in una certa gamma di colori, a seconda del rapporto metallo-gas nel rivestimento e la struttura del rivestimento. Entrambi questi fattori possono essere modificati modificando i parametri di deposizione.

Prima della deposizione, le parti vengono pulite in modo che la superficie sia priva di polvere o impurità chimiche. Una volta avviato il processo di rivestimento, tutti i parametri di processo pertinenti vengono continuamente monitorati e controllati da un sistema di controllo automatico del computer.

• Materiale del substrato: vetro, metallo (acciaio al carbonio, acciaio inossidabile, ottone), ceramica, plastica, gioielli.

• Tipo di struttura: struttura verticale, acciaio inossidabile #304.

• Film di rivestimento: film in metallo multifunzionale, film composito, film conduttivo trasparente, film che aumenta la riflessione, film di schermatura elettromagnetica, film decorativo.

• Colore del film: multi colori, pistola nera, colore dorato in titanio, colore dorato rosa, colore in acciaio inossidabile, colore viola, nero scuro, blu scuro e altri colori più.

• Tipo di film: Tin, CRN, Zrn, Ticn, Ticrn, Tinc, Tialn e DLC.

• materiali di consumo in produzione: titanio, cromo, zirconio, ferro, target in lega; Target piano, bersaglio cilindrico, bersaglio gemello, target opposto.