Quali sono i tipi di magnetron a media frequenza sputtering nella macchina del rivestimento a vuoto？

Magnetron Sputtering per Coater a vuoto Include molti tipi. Ognuno ha diversi principi di lavoro e oggetti dell'applicazione. Ma c'è una cosa in comune: l'interazione tra il campo magnetico e gli elettroni rende gli elettroni a spirale attorno alla superficie bersaglio, aumentando così la probabilità che gli elettroni colpiscano il gas argon per produrre ioni. Gli ioni generati si scontrano con la superficie target sotto l'azione del campo elettrico per sputarsi il materiale target. Negli ultimi decenni di sviluppo, tutti hanno gradualmente adottato magneti permanenti e raramente hanno usato magneti a bobina.
La fonte target è divisa in tipi bilanciati e sbilanciati. La fonte target equilibrata ha un rivestimento uniforme e la fonte target sbilanciata ha una forte forza di legame tra il film di rivestimento e il substrato. Le fonti target bilanciate vengono utilizzate principalmente per i film ottici a semiconduttore e le fonti sbilanciate sono utilizzate principalmente per indossare film decorativi.
Indipendentemente dall'equilibrio o squilibrato, se il magnete è stazionario, le sue caratteristiche del campo magnetico determinano il tasso di utilizzo del target generale è inferiore al 30%. Al fine di aumentare la velocità di utilizzo del materiale target, è possibile utilizzare un campo magnetico rotante. Tuttavia, un campo magnetico rotante richiede un meccanismo rotante e la velocità di sputtering deve essere ridotta. I campi magnetici rotanti sono utilizzati principalmente per obiettivi grandi o costosi. Come lo sputtering del film a semiconduttore. Per le piccole attrezzature e le attrezzature industriali generali, viene spesso utilizzata una fonte target stazionaria con un campo magnetico.

È facile sputare metalli e leghe con una sorgente target di magnetron ed è facile accendere e sputtering. Questo perché il bersaglio (catodo), il plasma e la camera del vuoto delle parti schizzate possono formare un ciclo. Ma se l'isolante come la ceramica è sputato, il circuito è rotto. Quindi le persone usano alimentatori ad alta frequenza e aggiungono forti condensatori al ciclo. In questo modo, il materiale target diventa un condensatore nel circuito isolante. Tuttavia, l'alimentazione di sputtering magnetron ad alta frequenza è costoso, il tasso di sputtering è molto piccolo e la tecnologia di messa a terra è molto complicata, quindi è difficile da adottare su larga scala. Per risolvere questo problema, è stato inventato lo sputtering reattivo del magnetron. Cioè, viene utilizzato un bersaglio metallico e vengono aggiunti gas argon e reattivi come azoto o ossigeno. Quando il materiale target metallico colpisce la parte a causa della conversione energetica, si combina con il gas di reazione per formare nitruro o ossido.
Gli isolanti di sputtering reattivi del magnetron sembrano facili, ma l'operazione effettiva è difficile. Il problema principale è che la reazione non solo si verifica sulla superficie della parte, ma anche sull'anodo, sulla superficie della camera del vuoto e sulla superficie della sorgente target. Ciò causerà estinzione, arcing della fonte target e superficie del pezzo, ecc. La tecnologia della fonte target gemella inventata da Leybold in Germania risolve bene questo problema. Il principio è che una coppia di fonti target sono reciprocamente anodi e catodo per eliminare l'ossidazione o la nitridazione sulla superficie dell'anodo.
Il raffreddamento è necessario per tutte le fonti (magnetron, multi-arco, ioni), poiché gran parte dell'energia viene convertita in calore. Se non c'è raffreddamento o raffreddamento insufficiente, questo calore renderà la temperatura della sorgente target superiore a 1.000 gradi e scioglie l'intera fonte target.
Un dispositivo Magnetron è spesso molto costoso, ma è facile spendere soldi per altre attrezzature come la pompa a vuoto, la misurazione di MFC e lo spessore del film senza ignorare la fonte target. Anche la migliore attrezzatura da sputtering magnetron senza una buona fonte target è come disegnare un drago senza finire l'occhio.