Qual è la differenza tra il rivestimento evaporativo e lo sputtering magnetron?

Il rivestimento di evaporazione consiste nel riscaldare il materiale target in modo che i componenti di superficie siano evaporati sotto forma di gruppi atomici o ioni e si depositano sulla superficie del substrato per formare un film sottile attraverso il processo di formazione del film (punto sparso - struttura dell'isola - struttura vago - crescita a strati).

L'uniformità dei componenti del rivestimento di evaporazione non è molto facile da garantire e i fattori di controllo specifici sono gli stessi di cui sopra, ma a causa del principio limitato, l'uniformità dei componenti del rivestimento di evaporazione non è buona per il rivestimento antenato non singolo.

Rivestimento sputtering Può essere semplicemente inteso come bombardata il bersaglio con elettroni o laser ad alta energia e sputando i componenti di superficie sotto forma di gruppi atomici o ioni e infine depositandoli sulla superficie del substrato, attraversando un processo di formazione di film e infine formando un film sottile.

Il rivestimento sputtering è diviso in molti tipi e la differenza rispetto al rivestimento di evaporazione è che il tasso di sputtering diventerà uno dei parametri principali.

Per il rivestimento di sputtering laser nel rivestimento sputtering, l'uniformità della composizione è molto facile da mantenere, ma l'uniformità dello spessore su scala atomica è relativamente scarsa (perché è sputtering pulsato) e il controllo dell'orientamento del cristallo (bordo esterno) è anche relativamente generale.

Macchina per rivestimento sputtering magnetron

I rivestimenti a ioni multi-arco e sputtering possono essere depositati in una vasta gamma di colori. Lo slip di colori può essere ulteriormente migliorato introducendo gas reattivi nella camera durante il processo di deposizione. I gas reattivi ampiamente usati per i rivestimenti decorativi sono azoto, ossigeno, argon o acetilene. I rivestimenti decorativi sono prodotti in una certa gamma di colori, a seconda del rapporto metallo-gas nel rivestimento e la struttura del rivestimento. Entrambi questi fattori possono essere modificati modificando i parametri di deposizione.

Prima della deposizione, le parti vengono pulite in modo che la superficie sia priva di polvere o impurità chimiche. Una volta avviato il processo di rivestimento, tutti i parametri di processo pertinenti vengono continuamente monitorati e controllati da un sistema di controllo automatico del computer.

• Materiale del substrato: vetro, metallo (acciaio al carbonio, acciaio inossidabile, ottone), ceramica, plastica, gioielli.

• Tipo di struttura: struttura verticale, acciaio inossidabile #304.

• Film di rivestimento: film in metallo multifunzionale, film composito, film conduttivo trasparente, film che aumenta la riflessione, film di schermatura elettromagnetica, film decorativo.

• Colore del film: multi colori, pistola nera, colore dorato in titanio, colore dorato rosa, colore in acciaio inossidabile, colore viola, nero scuro, blu scuro e altri colori più.

• Tipo di film: Tin, CRN, Zrn, Ticn, Ticrn, Tinc, Tialn e DLC.

• materiali di consumo in produzione: titanio, cromo, zirconio, ferro, target in lega; Target piano, bersaglio cilindrico, bersaglio gemello, target opposto.