Qual è il principio di lavoro della macchina per rivestimento sotto vuoto？

Nel campo del rivestimento, lo spessore del campione del film dopo il rivestimento è un fattore importante che influenza la performance del film. Pertanto, quando si valuta la performance di un campione di film, è necessario testare le prestazioni del campione di film in diversi spessori. Nel caso del rivestimento sottovuoto, questo richiede spesso preparazioni più campioni. Tuttavia, ci sono due problemi nella preparazione dei campioni per più volte: in primo luogo, lo stato dello strumento è diverso per i campioni coltivati ​​in tempi diversi, in modo che il fattore che influisce sull'esibizione del campione di film potrebbe non essere solo lo spessore; In secondo luogo, il campione deve essere nuovamente aspirato nell'esperimento di rivestimento sotto vuoto. Ottenere è molto dispendioso in termini di tempo. Aumentare il costo di produzione e test.

Pertanto, viene fornito un sistema di rivestimento a magnetron multifunzionale. Questo sistema è integrato da un sistema di rivestimento a vuoto e da un sistema di valigie. Può completare l'evaporazione del film sottile in una camera di evaporazione del vuoto elevato e ha gas inerte ad alta purezza nella scatola dei guanti. Lo stoccaggio e la preparazione dei campioni e il rilevamento di campioni dopo l'evaporazione vengono effettuati in un'atmosfera. La combinazione di rivestimento di evaporazione e vano portaoggetti realizza la produzione completamente chiusa di evaporazione, incapsulamento, test e altri processi, in modo che l'intero processo di crescita del film e preparazione del dispositivo sia altamente integrato in un sistema di atmosfera ambientale controllabile completa, eliminando l'opportunità organica di un ampio organico ad arro-area-area-area-areata di ampia area-area-area-area-area-areata di ampia area-areaea-area-areaea-areaea-areaea-areaea-areaea-areaea-areaea-area-areaea-areaea-areaea-areaea-area-area-areaea-areaea-areaea-area-areaea-areaea-area-areaea-areaea-area-areaea-areaea-area-areaea. circuiti.

Lo scopo principale del sistema di rivestimento di sputtering multifunzionale Magnetron: utilizzato per preparare vari film in metallo, film per semiconduttori, film dielettrici, film di magnetron, film ottici, film superconduttori, film di rilevamento e vari film funzionali speciali.